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          物理氣相沉積

          發布日期:2016-11-16 00:00 來源:http://www.thedailydizzy.com 點擊:

          英文指"phisical vapor deposition" 簡稱PVD.是鍍膜行業常用的術語.   PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類,真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應于PVD技術的三個分類,相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。   近十多年來,真空離子鍍膜技術的發展是最快的,它已經成為當今最先進的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜 ,指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機,指的也就是真空離子鍍膜機。   物理氣相沉積(PVD)   物理氣相沉積是通過蒸發,電離或濺射等過程,產生金屬粒子并與反應氣體反應形成化合物沉積在工件表面。物理氣象沉積方法有真空鍍,真空濺射和離子鍍三種,目前應用較廣的是離子鍍。   離子鍍是借助于惰性氣體輝光放電,使鍍料(如金屬鈦)氣化蒸發離子化,離子經電場加速,以較高能量轟擊工件表面,此時如通入CO2,N2等反應氣體,便可在工件表面獲得TiC,TiN覆蓋層,硬度高達2000HV。離子鍍的重要特點是沉積溫度只有500℃左右,且覆蓋層附著力強,適用于高速鋼工具,熱鍛模等。

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          相關標簽:離子濺射鍍膜機

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