-
PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。2.PVD鍍膜和PVD鍍膜機:PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類
發布時間：2016-09-01 點擊次數：175
-
真空鍍膜，就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內，鍍膜設備采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。它在塑料制品上的應用最廣泛，不少真空鍍膜機廠表示，塑料具有易成型，成本低，質量輕，不腐蝕等特點，塑料制品
發布時間：2016-08-27 點擊次數：104
-
最直接的鍍膜設備控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動蒸發源，通過PID控制循環驅動擋板，保持蒸發速率。只要將儀器與系統控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的精確度是有限的，部分原因是由于它監控的
發布時間：2016-08-22 點擊次數：131
-
1、例行保養生產設備中發現了一個不好的跡象，立即解決?！ ≌婵斟兡C不要認為這油定期更換，等待維修時間，轉子泵嚴重磨損可能。例如，軸承的一些卡工件轉架，更換軸承，然后等到它完全打破了，可
發布時間：2016-08-22 點擊次數：147
-
為考核鍍膜工藝的穩定性和鍍膜耐磨性的重復性，鍍膜設備對84爐高速鋼試片和50爐裝于不同位置的142片不銹鋼試片鍍非晶金剛石膜120~150nm后進行耐磨性試驗，結果分別示于圖2和圖3。圖2表明，在高速鋼基材上，非晶金剛石膜的最低耐磨壽命為2
發布時間：2016-08-20 點擊次數：312
-
真空鍍膜機的一些常見問題與解決辦法隨著鍍膜技術的快速增長，各種類型的真空鍍膜機也開始逐漸出現。但是論起薄膜的均勻性，恐怕所有的真空設備鍍制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響，現在我們就濺控濺射鍍膜機來看看造成不均勻的因素有哪些
發布時間：2016-08-15 點擊次數：308
-
，來料檢查 2，干燥，待真空鍍膜機鍍件來料時含較多水分，需干燥處理3-5h，溫度為50-60oC;3 3，上架，一般注塑時基本按真空鍍膜生產，因此待真空鍍膜鍍件表面一般油污較少經過一般的擦拭就可上架，但是來料油污多時需進行去污處理。方
發布時間：2016-08-08 點擊次數：265
-
真空鍍膜-光學材料（純度：99.9%-99.9999%）高純氧化物一氧化硅、SiO，二氧化鉿、HfO?，二硼化鉿，氯氧化鉿，二氧化鋯、ZrO2，二氧化鈦、TiO2，一氧化鈦、TiO，二氧化硅、SiO2，三氧化二鈦、Ti2O3，
發布時間：2016-08-08 點擊次數：286
-
濺射氣壓對磁控濺射成膜速率的影響在直流磁控濺射過程中,濺射氣壓(工作氣壓)是一個很重要的參數,它對濺射速率,鍍膜機沉積速率以
發布時間：2016-08-06 點擊次數：154
-
鍍膜設備用高能粒子(通常是由電場加速的正離子)轟擊固體表面，固體表面的原子、分子與入射的高能粒子交換動能后從固體表面飛濺出來的現象稱為濺射。濺射出來的原子(或原子團)具有—定的能量，它們可以重新沉積凝聚在固體基片表面上形成薄膜，稱為濺射鍍膜
發布時間：2016-08-06 點擊次數：136
